[发明专利]金属有机化合物化学气相沉积设备复机方法在审
申请号: | 201811559021.1 | 申请日: | 2018-12-19 |
公开(公告)号: | CN109536922A | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 王文君;陈仪清 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/18 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 姚锦程 |
地址: | 215000 江苏省苏州市工业*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种金属有机化合物化学气相沉积设备复机方法,包括以下步骤:高温加热,去除反应腔中残留的MO源;打开反应腔,去除涂层;关闭反应腔,稳定反应腔内的气流;通入有机铟源至反应腔内气压饱和状态;进入反应腔生产状态。本发明通过在还原腔体环境时采用增加有机铟的成分浓度,降低有机镁的成分浓度,使得腔体内MO源饱和度最佳,以及腔壁涂层均匀,省去了后续曝气和高温蒸发除水的工艺,无需改动装置结构而缩减了步骤,操作简便易行,大大缩短复机周期。 | ||
搜索关键词: | 反应腔 复机 化学气相沉积设备 金属有机化合物 去除 饱和度 饱和状态 高温加热 高温蒸发 生产状态 稳定反应 有机铟源 装置结构 还原腔 有机镁 有机铟 除水 曝气 气压 腔壁 腔内 残留 体内 | ||
【主权项】:
1.一种金属有机化合物化学气相沉积设备复机方法,其特征在于,所述复机方法包括以下步骤:S1、高温加热,去除反应腔中残留的MO源;S2、打开反应腔,去除涂层;S3、关闭反应腔,稳定反应腔内的气流;S4、通入有机铟源至反应腔内气压饱和状态;S5、进入反应腔生产状态。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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