[发明专利]一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法在审
| 申请号： | 201811563427.7 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN109855931A | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 马成;潘进;魏浩;罗扬;安会龙;孙力 | 申请（专利权）人： | 河钢股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28;G01N1/32;G01N1/34 |
| 代理公司： | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 | 代理人： | 曹淑敏 |
| 地址： | 050023 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法，所述制备方法包括奥氏体合金试样制样、打磨、抛光、精抛、两步超声处理和吹干工序；所述精抛工序，精抛过程使用20‑50nm粒度的二氧化硅悬浮液，金相磨抛机转速≤100转/分钟，精抛时间≥10min；所述两步超声处理工序，超声处理第一步将样品置于10‑45℃的10%NaOH水溶液中进行超声清洗，清洗时间≥3min。本发明与国标GBT19501相比不需要电解抛光过程，不需购置专用设备，减少了制备环节，简单方便，降低了成本；有效克服了现有的电解抛光方法需要专业设备、制样成本高、抛光工艺摸索时间长和电解液污染环境等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 精抛 制备 奥氏体合金 超声处理 二氧化硅悬浮液 电解抛光过程 电解液污染 金相磨抛机 超声清洗 电解抛光 抛光工艺 试样制样 专业设备 专用设备 抛光 吹干 制样 打磨 清洗 环节 | ||
【主权项】：
1.一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括奥氏体合金试样制样、打磨、抛光、精抛、两步超声处理和吹干工序；所述精抛工序，精抛过程使用20‑50nm粒度的二氧化硅悬浮液，金相磨抛机转速≤100转/分钟，精抛时间≥10min；所述两步超声处理工序，超声处理第一步将样品置于10‑45℃的10%NaOH水溶液中进行超声清洗，清洗时间≥3min。
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