[发明专利]背光结构在审
| 申请号： | 201811569734.6 | 申请日： | 2018-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN109407404A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 查国伟 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开一种背光结构，其包含一基板；一发光二极管阵列层，设置在所述基板上；一平坦层，设置在所述发光二极管阵列层上；一复合介质层，设置在所述平坦层上；一金属栅线层，具有数条金属线配置在所述复合介质层上；一荧光层，设置在所述金属栅线层上；以及一扩散层，设置在所述荧光层上；其中所述复合介质层包含一第一介质、一第二介质以及一第三介质，所述第二介质夹设于所述第一介质与所述第三介质之间，所述第一介质的折射率与所述第三介质的折射率均小于所述第二介质的折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 复合介质层 折射率 发光二极管阵列 背光结构 金属栅线 平坦层 荧光层 基板 金属线配置 扩散层 夹设 | ||
【主权项】：
1.一种背光结构，其特征在于：所述背光结构包含：一基板；一发光二极管阵列层，设置在所述基板上，所述发光二极管阵列层包含数个发光二极管；一平坦层，设置在所述发光二极管阵列层上，并且所述平坦层填充所述数个发光二极管之间的间隙；一复合介质层，设置在所述平坦层上；一金属栅线层，具有数条金属线配置在所述复合介质层上；一荧光层，设置在所述金属栅线层上；以及一扩散层，设置在所述荧光层上；其中所述复合介质层包含一第一介质、一第二介质以及一第三介质，所述第二介质夹设于所述第一介质与所述第三介质之间，所述第一介质的折射率与所述第三介质的折射率均小于所述第二介质的折射率。
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