[发明专利]一种等离子体源及一种镀膜机

摘要

本发明公开了一种等离子体源，包括壳体和设于壳体上电极、上接地件、下接地件和绝缘件，上接地件和下接地件分别设于电极的两侧，绝缘件设于电极与上接地件之间，其中上接地件、绝缘件和电极之间设有供等离子体反应气体传输至等离子体反应腔的气体传输通道，气体传输通道包括绝缘件与上接地件嵌合而形成的间隙通道；下接地件与电极之间构成等离子体反应腔。本发明还公开了一种具有上述等离子体源的镀膜机。本发明有效解决了绝缘件上小间隙尺寸加工难度大、精度差造成的杂散等离子产生现象。