[发明专利]一种基于陶瓷的薄膜电阻膜制作方法有效
| 申请号： | 201811576980.4 | 申请日： | 2018-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN109686521B | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 周东平 | 申请（专利权）人： | 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01C17/08 | 分类号： | H01C17/08 |
| 代理公司： | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人： | 明志会 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市苏州工业园区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明一种基于陶瓷的薄膜电阻膜制作方法，S1、将陶瓷基板进行预处理；S2、将陶瓷基板装入工装夹具内，再投放入蒸发镀膜设备，在真空度达到2X10 |
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| 搜索关键词： | 一种 基于 陶瓷 薄膜 电阻 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于陶瓷的薄膜电阻膜制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、将陶瓷基板进行预处理；S2、将陶瓷基板装入工装夹具内，再投放入蒸发镀膜设备，在真空度达到2X10（‑2）PA、温度达到200℃后开始镀膜；S3、给真空室冲99.999%纯度的氮气，流量为20‑400CC/min；S4、打开离子源，离化氮气，同时阳极电压设置在300‑350V；S5、蒸发99.99%纯度的金属钽，蒸发速度控制在1‑20A/s，得到氮化钽薄膜，氮化钽薄膜的厚度为200‑5000nm；S6、蒸发镀膜完成后，设置降温曲线。
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