[发明专利]成膜方法

摘要

为了在被处理基片上形成图案时实现随高度集成化带来的精细化，提供一种用于抑制颗粒产生的技术。一实施方式的方法是一种在形成于被处理基片上的图案上成膜的成膜方法，被处理基片被配置在载置台上，载置台被设置在能够在减压环境下进行等离子体处理的空间内，在该空间配置有与载置台相对的能够供给高频电力的上部电极。该方法反复执行下述流程，其中该流程包括：在被处理基片的图案上形成沉积膜的第一步骤；和仅对上部电极供给电力来在空间中产生等离子体，从而对空间进行清扫的第二步骤。

主权项

1.一种在形成于被处理基片上的图案上成膜的成膜方法，所述被处理基片被配置在载置台上，所述载置台被设置在能够在减压环境下进行等离子体处理的空间内，在该空间配置有与所述载置台相对的能够供给高频电力的上部电极，所述成膜方法的特征在于：反复执行下述流程，其中该流程包括：在所述被处理基片的所述图案上形成沉积膜的第一步骤；和仅对所述上部电极供给电力来在所述空间中产生等离子体，从而对该空间进行清扫的第二步骤。