[发明专利]光源系统及投影设备在审
| 申请号： | 201811581110.6 | 申请日： | 2018-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN111352287A | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 胡飞;吴超;余新;李屹 | 申请（专利权）人： | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 唐芳芳 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光源系统，包括：激光器组，所述激光器组出射的激光中至少有一部分作为所述光源系统的基色光；以及匀光元件，设置在所述激光器组出射的作为光源系统基色光的激光出光光路上，用于对所述作为光源系统基色光的激光进行匀光。本发明还涉及一种包括所述光源系统的投影设备。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 系统 投影设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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