[发明专利]一种超薄滤光片薄膜制备方法在审
| 申请号： | 201811581474.4 | 申请日： | 2018-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN109576647A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 刘凌松;陈国彦;周培;罗国星 | 申请（专利权）人： | 深圳正和捷思科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/58 |
| 代理公司： | 中山市兴华粤专利代理有限公司 44345 | 代理人： | 林少波 |
| 地址： | 518117 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种超薄滤光片薄膜制备方法。所述超薄滤光片薄膜制作方法，包括如下步骤：S1、玻璃基板预处理；S2、清洗烘干处理；S3、基片装夹；S4、镀膜；S5、冷却及卸载；其中所述新型膜系结构采用特别的结构设计。采用本技术方案的制作方法，通过膜系结构的全新厚度结构设计，使薄膜结构的应力得到有效释放，明显改善产品变形量，镀制的超薄滤光片薄膜基片破碎现象大大减少，有效提高了玻璃基片的可用面积。 | ||
| 搜索关键词： | 超薄滤光片 薄膜制备 膜系结构 光学薄膜技术领域 预处理 薄膜基片 薄膜结构 薄膜制作 玻璃基板 玻璃基片 厚度结构 清洗烘干 有效释放 变形量 镀膜 镀制 可用 卸载 装夹 破碎 冷却 制作 | ||
【主权项】：
1.一种超薄滤光片薄膜制作方法，其特征在于：包括如下步骤：S1、玻璃基板预处理：对玻璃基板进行研磨加工，形成厚度为0.15mm的玻璃基片；S2、清洗烘干处理：将玻璃基片进行超声除油除尘清洗处理，然后进行烘干；S3、基片装夹：将清洗烘干后的玻璃基片装载至镀膜治具；S4、镀膜：将上述镀膜治具装载至镀膜机进行蒸发镀膜，靶材为钽和硅，并使用离子源轰击气体分子，沉积得到具有新型膜系结构的超薄滤光片薄膜；所述新型膜系结构为：(HL)^n，其中，n为新型膜系结构的匹配系数，H为五氧化二钽(Ta2O5)介质层，L为二氧化硅(SiO2)介质层；所述新型膜系结构的结构如下：![]()
S5、冷却及卸载：将玻璃基片冷却后从镀膜治具取出卸载。
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