[发明专利]一种化学机械抛光系统及其工作过程有效
| 申请号： | 201811581768.7 | 申请日： | 2018-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN109623632B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 夏文羽;吴科;同小刚;陈智;文静;张传民 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B57/02 |
| 代理公司： | 31211 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郭四华 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光系统，涉及集成电路生产工艺，包括：研磨液供给装置、研磨液循环装置和研磨机台，所述研磨液循环装置位于连通所述研磨液供给装置与所述研磨机台的研磨液流通管路中，其中当化学机械抛光系统正常工作时，所述研磨液供给装置提供研磨液，研磨液通过所述研磨液流通管路和所述研磨液循环装置供给所述研磨机台以进行化学机械抛光；当化学机械抛光系统发出故障报警后，所述研磨液供给装置停止工作，所述研磨液循环装置供应研磨液给所述研磨机台以进行化学机械抛光，以提高晶圆的成品率、生产效率，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨液 化学机械抛光系统 研磨液供给装置 研磨液循环装置 研磨机台 化学机械抛光 流通管路 集成电路生产 故障报警 生产效率 成品率 晶圆 连通 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光系统，包括：研磨液供给装置、研磨液循环装置和研磨机台，所述研磨液循环装置位于连通所述研磨液供给装置与所述研磨机台的研磨液流通管路中，其中当化学机械抛光系统正常工作时，所述研磨液供给装置提供研磨液，研磨液通过所述研磨液流通管路和所述研磨液循环装置供给所述研磨机台以进行化学机械抛光；当化学机械抛光系统发出故障报警后，所述研磨液供给装置停止工作，所述研磨液循环装置供应研磨液给所述研磨机台以进行化学机械抛光。/n
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