[发明专利]一种量子点的制备方法在审
申请号: | 201811583541.6 | 申请日: | 2018-12-24 |
公开(公告)号: | CN111349436A | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 聂志文;杨一行 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | C09K11/70 | 分类号: | C09K11/70;B82Y30/00;B82Y20/00 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种量子点的制备方法,方法包括:提供阴离子前驱体溶液,所述阴离子前驱体溶液包括V族前驱体、第一配位溶剂和介孔材料,所述V族前驱体包括P前驱体;提供阳离子前驱体溶液,所述阳离子前驱体溶液包括III族前驱体,所述III族前驱体包括In前驱体;将所述阴离子前驱体溶液和所述阳离子前驱体溶液混合,在所述介孔材料的孔道中进行量子点晶体生长;加入脱附剂,得到量子点。本发明方法所制备的量子点具有尺寸分布均一、光学性能优良等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 量子 制备 方法 | ||
【主权项】:
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