[发明专利]一种高效坩埚及其制备方法有效
| 申请号： | 201811590557.X | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN111349967B | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 范波波;梁万松;赵卫;陈袆;蔡保山 | 申请（专利权）人： | 比亚迪股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B28/06 | 分类号： | C30B28/06;C30B29/06;B05D7/22 |
| 代理公司： | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 | 代理人： | 耿超 |
| 地址： | 518118 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高效坩埚及其制备方法。所述高效坩埚包括坩埚本体和设置于坩埚本体底部内表面之上的第一氮化硅涂层和设置在所述坩埚本体侧壁内表面的第二氮化硅涂层；第一氮化硅涂层包括第一氮化硅颗粒，第二氮化硅涂层包括第二氮化硅颗粒；其中，2μm≤第一氮化硅颗粒的中位粒径D50≤3.5μm，1μm≤第二氮化硅颗粒的中位粒径D50＜2μm。第一氮化硅涂层中的氮化硅颗粒的中位粒径D50较大，可使坩埚本体底部的涂层蓬松，提高硅锭的引晶效果；第二氮化硅涂层中的氮化硅颗粒的中位粒径D50较小，可使坩埚本体侧面涂层更加致密，降低坩埚侧壁内表面的硅锭粘埚率，进而提高光电转换效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高效 坩埚 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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