[发明专利]一种应用于半导体领域的涂层的洁净度的检测方法在审
| 申请号： | 201811598346.0 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN109632926A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 郭昊;刘红霞;郁忠杰;李加;徐俊阳;王嘉雨 | 申请（专利权）人： | 沈阳富创精密设备有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62;G01N1/34;G01N1/38 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 俞鲁江 |
| 地址： | 110000 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种应用于半导体领域的涂层的洁净度的检测方法，该检测方法的制备应用ICP‑MS电感耦合等离子体质谱仪。该涂层洁净度的检测方法主要包括以下步骤：1)将1‑4ml的稀酸滴到零件涂层区域，数分钟后收集稀酸称重并检测；2)清洗后，取1‑4ml水滴在与酸相同的区域，用直尺做标准，照下包含水滴与直尺的照片，用ImageJ软件算出面积；3)将稀释后的样品用外标法DRC模式进行检测。采用该方法获得的检测结果去除干扰较彻底，测试结果更准确可信度高。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 洁净度 半导体领域 水滴 稀酸 直尺 电感耦合等离子体质谱仪 检测结果 零件涂层 制备应用 可信度 外标法 称重 稀释 去除 应用 清洗 | ||
【主权项】：
1.一种应用于半导体领域的涂层的洁净度的检测方法，其特征在于，主要包括以下几个步骤：1)将1‑4ml稀酸滴到零件涂层区域，数分钟后收集稀酸称重并检测；2)清洗吹干后，取1‑4ml水滴在与酸相同的区域，用直尺做标准，拍下照片，用软件算出面积；3)将稀释后的样品用外标法进行检测，该方法获得的检测结果去除干扰较彻底。
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