[发明专利]光敏树脂组合物、图案形成方法和光电半导体器件的制造在审
| 申请号： | 201811598408.8 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN109976091A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 丸山仁;近藤和纪 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/075;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 何杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明涉及光敏树脂组合物、图案形成方法和光电半导体器件的制造，其提供了一种光敏树脂组合物，其包含具有式(A1)的双端脂环式环氧基改性的有机硅树脂和光致产酸剂。在式(A1)中，R1至R4是C1‑C20一价烃基，n是1‑600的整数。该组合物能够使用大幅变化波长的辐射来进行图案形成，并且图案化的膜具有高透明性、耐光性和耐热性。 |
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| 搜索关键词： | 光敏树脂组合物 图案形成 光电半导体器件 耐热性 脂环式环氧基 光致产酸剂 有机硅树脂 高透明性 一价烃基 耐光性 图案化 波长 改性 双端 制造 辐射 | ||
【主权项】：
1.一种光敏树脂组合物，包括：(A)具有式(A1)的双端脂环式环氧基改性有机硅树脂：![]()
其中R1至R4各自独立地为可含有杂原子的C1‑C20一价烃基，n为1至600的整数，条件是当n为2以上的整数时，基团R3可以是相同的或不同的且基团R4可以是相同的或不同的，和(B)光致产酸剂。
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