[发明专利]增反膜光栅结构、电致发光器件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201811598470.7 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN111370588B 公开(公告)日: 2022-10-25
发明(设计)人: 柯秋坛 申请(专利权)人: 广东聚华印刷显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 林青中
地址: 510000 广东省广州市广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种增反膜光栅结构、电致发光器件及其制作方法。该增反膜光栅通过设置依次层叠且交替设置的高折射率介质层和低折射率介质层,形成增反组合膜,经相应介质层上下两表面反射的两束反射光后相互叠加形成的干涉相长,反射光增强。并且增反组合膜中设有多个透光狭缝形成光栅,这样会有一部分光射入透光狭缝,并经反射结构层反射,该反射的光与前面经多层介质层反射的光构成相邻的两束光,该两束光会同步发生相长形成明条纹,进一步增强整体的反射光。该增反膜光栅结构针对电致发光器件的侧面进行结构设计,可以降低相应的波导模式,有利于增强电致发光器件的出光效率。
搜索关键词: 增反膜 光栅 结构 电致发光 器件 及其 制作方法
【主权项】:
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