[发明专利]一种包含不同透光性的新型光学掩膜版

摘要

本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种包含不同透光性的新型光学掩膜版，其制备方法包括以下步骤：a、选取基板；b、在玻璃基板表面镀铬金属膜层；c、铬膜上涂覆光刻胶；d、通过电子束曝光设定图形区域内的光刻胶；e、浸泡刻蚀液；f、去除剩余光刻胶；g、在玻璃基板上镀上部分透光薄膜；h、在部分透光薄膜上均匀涂覆光刻胶；i、通过电子束曝光设定图形区域内的光刻胶；j、浸泡刻蚀液或干法蚀刻；k、去除剩余光刻胶，形成新型光学掩膜版；本申请提供了一种包含不同透光性的新型光学掩膜版，可针对实际需要，一次光刻做出不同高度台阶的光刻胶图形，减少光刻步骤，满足光刻掩膜要求，可在实际的工业生产中被进一步推广。