[发明专利]超大面积扫描式反应离子刻蚀机及刻蚀方法有效
| 申请号： | 201811610204.1 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN111383883B | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;赵泽宇;王彦钦;高平;马晓亮;蒲明博;李雄;郭迎辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 倪斌 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明属于干法刻蚀技术领域。本发明公开了一种超大面积扫描式反应离子刻蚀机和刻蚀方法。该超大面积扫描式反应离子刻蚀机包括：进样室、刻蚀反应室、过渡室、刻蚀离子产生室。本发明通过沿扫描方向移动样品架在进样室、刻蚀反应室、过渡室之间运动，对放置于样品架上的样品进行扫描刻蚀，可以实现大面积、均匀及高效的刻蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 超大 面积 扫描 反应 离子 刻蚀 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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