[发明专利]进气管路连接装置及含其的用于等离子体刻蚀的进气单元有效

专利信息
申请号: 201811613040.8 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN111383890B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 连增迪;黄允文;吴狄 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 刘琰;贾慧琴
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种进气管路连接装置及含其的用于等离子体刻蚀的进气单元,该进气管路连接装置包括管状本体及设置在所述管状本体内的耐腐蚀密封件;所述刻蚀气体管线与所述气体管路接头分别从所述管状本体的两端伸入并进行对接,且对接处由所述耐腐蚀密封件进行环绕并密封;所述管状本体的两端分别与所述刻蚀气体管线与所述气体管路接头通过焊接固定。采用本发明后,水汽进入刻蚀气体管线中所接触到的是耐腐蚀密封件,不会接触到焊接在进气管路连接装置外部两侧的焊缝,因而避免了原有刻蚀气体管线焊缝的腐蚀,延长了刻蚀气体管线的使用寿命,有效避免由于刻蚀气体管线腐蚀造成的晶片金属污染,提高了产品的质量。
搜索关键词: 管路 连接 装置 用于 等离子体 刻蚀 单元
【主权项】:
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