[发明专利]像素阵列版图的制作方法及像素阵列的制作方法有效

专利信息
申请号: 201811627103.5 申请日: 2018-12-28
公开(公告)号: CN109698212B 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 李艳丽;伍强;杨渝书;朱鸣 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑星
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种像素阵列版图的制作方法和一种像素阵列的制作方法,通过减小原始周期性像素阵列版图的某一区域内的多个像素单元的面积来实现像素单元在平面空间上的随机分布/近似随机分布,且通过进一步对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整,以使同一所述像素单元的各所述感光单元所占面积比例不变,或按各所述感光单元的面积改变的比例调整与各所述感光单元对应的所述电容单元的面积,以形成目标像素阵列版图。由于形成的所述目标像素阵列版图的周期性遭到了破环,因此通过所述目标像素阵列版图形成目标像素阵列,并通过所述目标像素阵列形成图像传感器来对周期性图像进行成像时会降低莫尔条纹甚至消除莫尔条纹。
搜索关键词: 像素 阵列 版图 制作方法
【主权项】:
1.一种像素阵列版图的制作方法,其特征在于,包括:提供一原始周期性像素阵列版图,所述原始周期性像素阵列版图包括多个相互隔离的像素单元,每个所述像素单元包括四个感光单元和与各所述感光单元相对应的电容单元;在所述原始周期性像素阵列版图上选取一区域,在选取的区域内选取多个像素单元并减小选取的所述像素单元的面积;对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整,以使同一所述像素单元的各所述感光单元所占面积比例不变,或计算与所述原始周期性像素阵列版图相比所述选取的区域内的各所述感光单元的面积减小的比例,并按计算得到的各所述感光单元的面积减小的比例调整与各所述感光单元对应的电容单元的面积,以形成目标像素阵列版图。
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