[发明专利]像素阵列版图的制作方法及像素阵列的制作方法有效
申请号: | 201811627103.5 | 申请日: | 2018-12-28 |
公开(公告)号: | CN109698212B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 李艳丽;伍强;杨渝书;朱鸣 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑星 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种像素阵列版图的制作方法和一种像素阵列的制作方法,通过减小原始周期性像素阵列版图的某一区域内的多个像素单元的面积来实现像素单元在平面空间上的随机分布/近似随机分布,且通过进一步对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整,以使同一所述像素单元的各所述感光单元所占面积比例不变,或按各所述感光单元的面积改变的比例调整与各所述感光单元对应的所述电容单元的面积,以形成目标像素阵列版图。由于形成的所述目标像素阵列版图的周期性遭到了破环,因此通过所述目标像素阵列版图形成目标像素阵列,并通过所述目标像素阵列形成图像传感器来对周期性图像进行成像时会降低莫尔条纹甚至消除莫尔条纹。 | ||
搜索关键词: | 像素 阵列 版图 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种像素阵列版图的制作方法,其特征在于,包括:提供一原始周期性像素阵列版图,所述原始周期性像素阵列版图包括多个相互隔离的像素单元,每个所述像素单元包括四个感光单元和与各所述感光单元相对应的电容单元;在所述原始周期性像素阵列版图上选取一区域,在选取的区域内选取多个像素单元并减小选取的所述像素单元的面积;对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整,以使同一所述像素单元的各所述感光单元所占面积比例不变,或计算与所述原始周期性像素阵列版图相比所述选取的区域内的各所述感光单元的面积减小的比例,并按计算得到的各所述感光单元的面积减小的比例调整与各所述感光单元对应的电容单元的面积,以形成目标像素阵列版图。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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