[发明专利]一种具有高抗辐照能力的四结太阳电池结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811628885.4 申请日: 2018-12-28
公开(公告)号: CN109920874B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 薛超;高鹏;姚立勇;姜明序;张无迪;刘丽蕊;王宇 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十八研究所
主分类号: H01L31/0687 分类号: H01L31/0687;H01L31/0693;H01L31/054;H01L31/18
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 刘昕
地址: 300384 天津市滨海*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种具有高抗辐照能力的四结太阳电池结构及其制备方法,结构包括依次设置的金属薄膜衬底、高反射率金属层、介质层、薄型四结外延层;方法包括采用金属有机化学气相沉积技术制备薄型四结外延层;在外延片表面制备全方位反射器,采用等离子体增强化学气相沉积技术生长介质层,在介质层上腐蚀出周期性的微孔,在外延片表面蒸镀上高反射率的金属材料;采用电镀技术在全方位反射器表面制备金属薄膜衬底;通过化学腐蚀分别去掉砷化镓衬底和GaInP腐蚀停止层。本发明的有益效果:四个子电池的厚度大幅度减薄,大幅度降低了带电粒子辐射对四结电池的损失,减少了缺陷密度,提高了四结电池的抗辐照能力,从而促进四结电池在航天领域的应用。
搜索关键词: 一种 具有 辐照 能力 太阳电池 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种具有高抗辐照能力的四结太阳电池结构,包括依次设置的金属薄膜衬底、高反射率金属层、介质层、薄型四结外延层。
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