[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201811629420.0 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN111378375B | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 何华锋;王晨;李星;孙金涛;史经深 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒、硝酸铁、有机酸，所述二氧化硅研磨颗粒表面带正电荷。本发明的化学机械抛光液，与含有有机膦酸的抛光液相比，胶体稳定性高。另外，本发明的抛光液中添加了氮化硅抛光速率抑制剂，在具有较高的钨抛光速率的前提下，适当抑制了氮化硅的抛光速率，满足了半导体生产中对抛光的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
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