[发明专利]一种鳍型场效应管在审

专利信息
申请号: 201811629777.9 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN109524462A 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 范谦;倪贤锋;何伟 申请(专利权)人: 苏州汉骅半导体有限公司
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/812;H01L29/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州市工业园区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种鳍型场效应管,其特征在于,包括:衬底、位于所述衬底上的缓冲层和位于所述缓冲层上的势垒层;位于所述势垒层上的源极、漏极和栅极,所述栅极位于所述源极和漏极之间;所述势垒层包括平行且间隔设置的多个鳍,所述鳍位于所述源极与漏极之间的区域且与所述栅极垂直;所述鳍的宽度(单位nm)为a1、a2、a3、a4、...、an,所述宽度为a1的鳍的数量为b1,所述宽度为a2的鳍的数量为b2,所述宽度为a3的鳍的数量为b3,依此类推,所述宽度为an的鳍的数量为bn,其中,a1、a2、a3、a4、...、an为10‑200之间的任意整数,b1、b2、b3、b4、...、bn为任意正整数。本申请所提出的鳍型场效应管,通过组合多种宽度的鳍,提高器件的线性度。
搜索关键词: 场效应管 势垒层 漏极 源极 鳍型 缓冲层 衬底 间隔设置 线性度 正整数 平行 垂直 申请
【主权项】:
1.一种鳍型场效应管,其特征在于,包括:衬底、位于所述衬底上的缓冲层和位于所述缓冲层上的势垒层;位于所述势垒层上的源极、漏极和栅极,所述栅极位于所述源极和漏极之间;所述势垒层包括平行且间隔设置的多个鳍,所述鳍位于所述源极与漏极之间的区域且与所述栅极垂直;所述鳍的宽度(单位nm)为a1、a2、a3、a4、...、an,所述宽度为a1的鳍的数量为b1,所述宽度为a2的鳍的数量为b2,所述宽度为a3的鳍的数量为b3,依此类推,所述宽度为an的鳍的数量为bn,其中,a1、a2、a3、a4、...、an为10‑200之间的任意整数,b1、b2、b3、b4、...、bn为任意正整数。
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