[发明专利]扫描曝光装置有效
申请号: | 201811631647.9 | 申请日: | 2014-05-02 |
公开(公告)号: | CN110045580B | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 加藤正纪 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/24 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟;闫剑平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种曝光方法,经由投影光学系统将来自光罩的图案的光束投射至配置有基板的投影区域,所述光罩配置于照明光的照明区域,所述曝光方法包括:在所述照明区域和所述投影区域中的一方区域中,以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承所述光罩和所述基板中的一方;在所述照明区域和所述投影区域中的另一方区域中,以沿着规定的第二面的方式来支承所述光罩和所述基板中的另一方;使该第一面所支承的所述光罩和所述基板中的一方沿着所述第一面旋转,使该第一面所支承的所述光罩和所述基板中的一方在扫描曝光方向上移动;和在所述基板的曝光面上,将在所述扫描曝光方向上包括两处最佳聚焦位置的光束投射至所述投影区域。 | ||
搜索关键词: | 扫描 曝光 装置 | ||
【主权项】:
1.一种扫描曝光装置,其将反射型的光罩图案的一部分的投影像投影于设定在挠性的基板的表面的投影区域内的同时,使所述基板在沿着所述表面的第一方向上移动,来将所述光罩图案的像扫描曝光于所述基板,所述扫描曝光装置的特征在于,具备:照明光学系统,其将照明光照射至所述光罩图案;投影光学系统,其供来自所述光罩图案的反射光束入射,在所述投影区域内沿着平面状的投影像面将所述光罩图案的一部分的投影像在最佳聚焦状态下成像;和基板支承筒,其利用从沿与所述第一方向正交的第二方向延伸的轴以规定半径弯曲的外周面使所述基板弯曲成圆筒面状来支承所述基板,并且绕所述轴进行旋转,来使所述基板在与所述第一方向对应的所述外周面的周向上移动,以使所述平面状的投影像面和弯曲成所述圆筒面状的所述基板的表面在所述投影区域内的所述第一方向上分离的两处分别相交的方式设定了所述基板支承筒和所述投影光学系统。
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