[发明专利]叠层结构及其制备方法、发光二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811633012.2 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN111384283B 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 张滔;向超宇;朱佩;罗植天 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L51/50
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 黄志云
地址: 516006 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种叠层结构,至少包括一个叠层单元,所述叠层单元包括相对设置的第一金属氧化物层和第二金属氧化物层,以及设置在所述第一金属氧化物层和所述第二金属氧化物层之间的第三金属层,且所述第一金属氧化物层和所述第三金属层之间、以及所述第二金属氧化物层和所述第三金属层之间形成第三金属氧化物薄膜。
搜索关键词: 结构 及其 制备 方法 发光二极管
【主权项】:
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