[发明专利]一种调控X射线毛细管传输特性的方法有效

专利信息
申请号: 201811633570.9 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN109741851B 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 孔祥东;李艳丽;姚广宇;韩立 申请(专利权)人: 中国科学院电工研究所
主分类号: G21K1/02 分类号: G21K1/02;G21K1/06
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 关玲
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种调控X射线毛细管传输特性的方法,采用原子层沉积技术在毛细管内表面沉积一层厚度均匀的薄膜,通过对薄膜材料类型和厚度的控制,实现对X射线毛细管传输特性的调控。本发明可用于X射线显微成像和X射线荧光光谱分析等系统中,高效聚焦或准直X射线。
搜索关键词: 一种 调控 射线 毛细管 传输 特性 方法
【主权项】:
1.一种调控X射线毛细管传输特性的方法,其特征在于:所述方法采用原子层沉积方法在毛细管内表面沉积一层厚度均匀的薄膜,通过对薄膜材料类型和厚度的控制,实现对X射线毛细管传输特性的调控;所述的方法根据生长薄膜的不同,选定两种反应前驱体A和B,设定反应舱真空度小于20Pa,反应温度为150‑300℃,薄膜的沉积速率约1埃/周期,通过计算预生长的薄膜厚度除以沉积速率,得到并设定反应周期数。
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