[发明专利]阵列基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811634484.X 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN109597256A 公开(公告)日: 2019-04-09
发明(设计)人: 江志雄;徐洪远 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供了一种阵列基板,包括玻璃基板、制备于所述玻璃基板表面的栅极、扫描线、以及制备于所述基板表面且覆盖所述栅极和所述扫描线的垫高层,所述垫高层包括对应于所述扫描线的第一区域,以及对应于所述栅极的第二区域;所述垫高层包括第一垫高层和第二垫高层,所述第一垫高层覆盖所述栅极和所述扫描线,所述第二垫高层位于所述第一垫高层的任意一侧;有益效果:本申请提供的阵列基板,通过在扫描线与数据线在交叠处设置垫高层,提高扫描线与数据线之间的距离,降低面板的电阻电容延迟效应,进而提升了显示面板的显示品质。
搜索关键词: 垫高层 扫描线 阵列基板 制备 数据线 玻璃基板表面 电阻电容延迟 玻璃基板 第二区域 第一区域 基板表面 显示面板 显示品质 交叠处 覆盖 申请
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括玻璃基板、制备于所述玻璃基板表面的栅极、扫描线、以及制备于所述玻璃基板表面且覆盖所述栅极和所述扫描线的垫高层,所述垫高层包括对应于所述扫描线的第一区域,以及对应于所述栅极的第二区域;所述垫高层包括第一垫高层和第二垫高层,所述第一垫高层覆盖所述栅极和所述扫描线,所述第二垫高层位于所述第一垫高层的任意一侧。
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