[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用在审
| 申请号： | 201811635492.6 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN111378377A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 周文婷;荆建芬;宋凯;汪国豪;杨俊雅;李恒 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/06 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒，含一个或多个羧基的含氮杂环化合物，唑类化合物及其衍生物，有机酸，氧化剂。本发明的抛光液同时具有较高的铜抛光速率氮化硅抛光速率，而且铜和氮化硅的抛光速率比接近1:1，从而用于抛光含有铜和氮化硅的晶片时，降低了抛光后的晶片表面的碟形凹陷，提高了表面平整度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
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