[发明专利]一种远紫外高反射镜的制备方法

摘要

本发明涉及一种远紫外高反射镜的制备方法，包括清洗、镀膜、退火和储存，具体包括以下步骤：在镀膜时抽高真空离子束刻蚀清洗好基板，先镀打底层Cr膜后用热蒸发方式镀制Al膜，温度升高到180‑220℃烘烤镀膜室，继续抽真空用氩离子束流刻蚀Al膜表面Al2O3膜，然后电子束蒸镀MgF2薄膜；抽真空在250‑300℃温度下退火3小时提高样品薄膜质量，将样品充N2放入干燥柜中储存。与现有技术相比，本发明制备的远紫外高反膜光学特性优异、反射率较高、环境稳定性好，可以批量制备，在未来的光学薄膜领域具有广泛应用前景。

主权项

1.一种远紫外高反镜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)清洗基板：将基板进行超声清洗后用N₂吹干基板待用；2)离子束流刻蚀基板：基板放入镀膜室后抽真空使气压低于10^‑4pa，采用离子束流刻蚀基板，通过刻蚀减少基板表面沉积的杂质和缺陷，用以改善基板表面的质量；3)镀制Cr膜：在常温下，采用电子束蒸发方式镀制10‑15nm的Cr膜，用以增加基板对Al膜的附着力；4)镀制Al膜：在常温下，采用热蒸发方式加热熔化钨舟中的Al粒，通过晶振监控的方式控制基板上Al膜的镀制厚度为80‑120nm；5)控制和减少Al₂O₃氧化膜的形成：将镀膜室温度升高到180‑220℃，烘烤整个镀膜室超过30分钟，用以降低镀膜室的水汽对Al膜氧化的影响，继续抽真空，使气压低于10^‑4pa，采用氩离子束流刻蚀Al膜薄膜上生成的Al₂O₃氧化膜，减小紫外波段的吸收；6)镀制MgF₂薄膜：采用电子束蒸发方式镀制20‑30nm致密均匀的MgF₂薄膜，并将样品在镀膜机中冷却到室温；7)样品退火处理：将镀制好的样品放入清洗干净的耐高温石英容器中，置于高温试验箱中抽真空使气压低于10^‑4pa，设置分步退火条件，将样品在250‑300℃退火3小时；8)样品的储存：将退火处理后的样品，放入密封容器里充入N₂，置于干燥柜中保存。