[实用新型]曝光机光学系统有效
| 申请号： | 201820002395.2 | 申请日： | 2018-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN207623682U | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | 齐鹏煜;姜晶晶;汪栋 | 申请（专利权）人： | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种曝光机光学系统，属于显示技术领域。该曝光机光学系统包括：光源，用于提供初始光束；蝇眼透镜，位于所述初始光束的光路上，用于将所述初始光束分裂为多个细光束；光学过滤器，与所述蝇眼透镜相邻设置，用于控制所述蝇眼透镜出射所述细光束的照度以及扩散幅度。本实用新型的曝光机光学系统可以有效改变设备光路角度，提升光源利用率，确保设备的超细线化开发。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 曝光机 蝇眼透镜 本实用新型 细光束 光学过滤器 光源利用率 改变设备 确保设备 相邻设置 超细线 出射 光路 照度 光源 扩散 分裂 开发 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机光学系统，其特征在于，包括：光源，用于提供初始光束；蝇眼透镜，位于所述初始光束的光路上，用于将所述初始光束分裂为多个细光束；光学过滤器，与所述蝇眼透镜相邻设置，用于控制所述蝇眼透镜出射所述细光束的照度以及扩散幅度。
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