[实用新型]蒸发源装置以及溅射镀膜设备

摘要

本实用新型属于真空溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种蒸发源装置以及溅射镀膜设备，其中，蒸发源装置包括第一蒸发源机构、与所述第一蒸发源机构水平错位的第二蒸发源机构以及用于驱动所述第二蒸发源机构上下运动的升降驱动机构。由于将蒸发源装置分为第一蒸发源机构和第二蒸发源机构，第一蒸发源机构和第二蒸发源机构能够单独供应，且还由于第二蒸发源机构与第一蒸发源机构水平错位，升降驱动机构能够驱动第二蒸发源机构上下运动，这样，当出现出料量不同时，则可通过升降驱动机构驱动第二蒸发源机构上下运动，以改变第一出料口与第二出料口之间的出料位置，能够调整镀膜的厚度，从而提高镀膜的均匀性。

主权项

1.一种蒸发源装置，与真空镀膜室配合使用，其特征在于，包括第一蒸发源机构、与所述第一蒸发源机构水平错位的第二蒸发源机构以及用于驱动所述第二蒸发源机构上下运动的升降驱动机构，所述第一蒸发源机构包括具有第一蒸发腔的第一蒸发箱以及置于所述第一蒸发腔内的第一坩埚，所述第一坩埚开设有开口朝上设置并用于存放药液的第一存药腔，所述第一蒸发箱于其侧壁开设于所述第一蒸发腔连通与所述真空镀膜室对接的第一出料口，所述第二蒸发源机构包括具有第二蒸发腔的第二蒸发箱以及置于所述第二蒸发腔内的第二坩埚，所述第二坩埚开设有开口朝上设置并用于存放药液的第二存药腔，所述第二蒸发箱于其侧壁开设于第二蒸发腔连通与所述真空镀膜室对接的第二出料口。