[实用新型]电桥有效
| 申请号： | 201820055932.X | 申请日： | 2018-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN208127394U | 公开（公告）日： | 2018-11-20 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 石家庄创天电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01P5/16 | 分类号： | H01P5/16 |
| 代理公司： | 北京合智同创知识产权代理有限公司 11545 | 代理人： | 李杰 |
| 地址： | 050000 河北省石*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例提供了一种电桥，其包括：第一介质层、第二介质层、第一金属层、第二金属层；所述第一金属层设置在所述第一介质层上方位置，所述第二金属层设置在所述第一介质层和所述第二介质层之间，或者，所述第二金属层设置在所述第一介质层上方位置，所述第一金属层设置在所述第一介质层和所述第二介质层之间；所述第一金属层设置第一支路，所述第二金属层设置第二支路，所述第一金属层包括的所述第一支路和所述第二金属层包括的所述第二支路之间配置为形成宽边耦合、窄边耦合，从而改善了电桥在方向性、输入阻抗的恒定性、功率和集成度等方面性能。 | ||
| 搜索关键词： | 介质层 第二金属层 第一金属层 支路 上方位置 电桥 宽边耦合 输入阻抗 窄边耦合 集成度 定性 配置 申请 | ||
【主权项】：
1.一种电桥，其特征在于，包括：第一介质层、第二介质层、第一金属层、第二金属层；所述第一金属层设置在所述第一介质层上方位置，所述第二金属层设置在所述第一介质层和所述第二介质层之间，或者，所述第二金属层设置在所述第一介质层上方位置，所述第一金属层设置在所述第一介质层和所述第二介质层之间；所述第一金属层设置第一支路，所述第二金属层设置第二支路，所述第一金属层包括的所述第一支路和所述第二金属层包括的所述第二支路之间配置为形成宽边耦合、窄边耦合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于石家庄创天电子科技有限公司，未经石家庄创天电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201820055932.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种低互调腔体耦合器
- 下一篇：一种超宽带滤波功率分配器
