[实用新型]研磨装置及研磨系统有效

专利信息
申请号: 201820147456.4 申请日: 2018-01-29
公开(公告)号: CN208034439U 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 朱松山;高裕弟;孙剑;洪耀;李晓波 申请(专利权)人: 枣庄维信诺电子科技有限公司
主分类号: B24B57/00 分类号: B24B57/00;B24B37/00
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 陈博旸
地址: 277000 山东省枣*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型涉及显示技术领域,提供一种研磨装置及研磨系统,其中研磨装置,包括:研磨组件;配液组件,包括配液主管以及与配液主管连接的若干配液支管,其中若干配液支管与研磨组件固定连接并在研磨组件上均匀分布。通过固定连接的研磨组件与配液组件,即研磨组件与配液组件之间的位置相对固定,并通过配液组件中的若干配液支管在研磨组件上的均匀分布,使得配液组件向研磨组件提供的研磨液能够均匀分布在研磨组件上,达到研磨组件能够较好地研磨待研磨件的目的,从而使得待研磨件具有较好的抛光效果。
搜索关键词: 研磨组件 配液组件 配液 研磨装置 支管 研磨系统 研磨件 本实用新型 抛光效果 位置相对 研磨 研磨液 主管
【主权项】:
1.一种研磨装置,其特征在于,包括:研磨组件(20);配液组件(10),包括配液主管(11)以及与所述配液主管(11)连接的若干配液支管(12),其中所述若干配液支管(12)与所述研磨组件(20)固定连接并在所述研磨组件(20)上均匀分布。
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