[实用新型]多通道集成滤光片的漫反射光隔离结构有效

专利信息
申请号: 201820151806.4 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN208125944U 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 周东平 申请(专利权)人: 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10;G02B5/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州市工业园区娄*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型揭示了一种多通道集成滤光片的漫反射光隔离结构,包括设置在基片表面的喷砂处理面,设置在喷砂处理面上的黑铬金属膜层,还包括设置在黑铬金属膜层上的消光层。本实用新型利用黑铬金属膜层满足光学透过性能低的要求,同时,利用由四层氧化物光学薄膜组成的消光层降低黑铬金属膜层的剩余反射率,再者,通过设置粗糙的喷砂处理面,使得黑铬金属膜层具有漫反射特性,在各个方向都具有较低的剩余反射率,并使得黑铬金属膜层与基片结合得更牢固可靠;可有效实现多通道集成滤光片各通道之间的隔离,保障多通道集成滤光片的工作性能,还具有使用寿命长的优点。
搜索关键词: 金属膜层 黑铬 集成滤光片 多通道 喷砂处理 本实用新型 剩余反射率 隔离结构 漫反射光 消光层 光学透过性能 工作性能 光学薄膜 基片表面 使用寿命 有效实现 漫反射 氧化物 粗糙 隔离
【主权项】:
1.一种多通道集成滤光片的漫反射光隔离结构,其特征在于,包括设置在基片表面的喷砂处理面,所述喷砂处理面的分布区域与多通道集成滤光片通道间的空白区域相对应;黑铬金属膜层,所述黑铬金属膜层设置在所述喷砂处理面上,以阻止光线通过;还包括消光层,所述消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成,所述第一氧化铬膜层设置在所述黑铬金属膜层上,所述第一二氧化硅膜层设置在所述第一氧化铬膜层上,所述第二氧化铬膜层设置在所述第一二氧化硅膜层上,所述第二二氧化硅膜层设置在所述第二氧化铬膜层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州晶鼎鑫光电科技有限公司,未经苏州晶鼎鑫光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820151806.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top