[实用新型]一种等离子喷嘴以及等离子处理装置有效
申请号: | 201820190533.4 | 申请日: | 2018-02-02 |
公开(公告)号: | CN207731896U | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 蔡卫 | 申请(专利权)人: | 深圳市诚峰智造有限公司 |
主分类号: | H01L21/425 | 分类号: | H01L21/425;H01J37/32 |
代理公司: | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人: | 张明 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种等离子喷嘴,包括本体,所述本体的一端封闭,本体的另一端设置有盲孔,本体的侧壁上设置有通孔,所述通孔的两端分别连通所述盲孔和外界,所述通孔的轴线与所述盲孔的轴线之间的夹角大于0°且小于180°。还公开了一种等离子处理装置,包括等离子喷嘴,还包括等离子发生器套管和电极,所述等离子发生器套管内包括容置腔,所述电极设置于所述容置腔内;所述等离子喷嘴的另一端连接于所述容置腔的腔口。本实用新型改变了传统方式的等离子束的路径,让等离子束偏斜一定角度从喷嘴中出来,从而使等离子处理装置的适用性更加广泛,不仅可以处理平面产品,而且可以处理内壁槽、隐藏槽、燕尾槽等槽式产品。 | ||
搜索关键词: | 等离子喷嘴 等离子处理装置 容置腔 盲孔 通孔 等离子发生器 本实用新型 等离子束 套管 传统方式 电极设置 平面产品 一端封闭 一端连接 一端设置 喷嘴 内壁槽 燕尾槽 隐藏槽 电极 槽式 侧壁 偏斜 腔口 连通 | ||
【主权项】:
1.一种等离子喷嘴,其特征在于,包括本体,所述本体的一端封闭,本体的另一端设置有盲孔,本体的侧壁上设置有通孔,所述通孔的两端分别连通所述盲孔和外界,所述通孔的轴线与所述盲孔的轴线之间的夹角大于0°且小于180°。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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