[实用新型]一种形状记忆镭射膜有效
| 申请号： | 201820207852.1 | 申请日： | 2018-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN208101254U | 公开（公告）日： | 2018-11-16 |
| 发明（设计）人： | 温静;张学斌 | 申请（专利权）人： | 江苏新光镭射包装材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/08 | 分类号： | B32B27/08;B32B27/30;B32B27/36;B32B33/00;B32B7/12;B32B37/00;B32B37/12;B32B38/06;B65D65/40 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 赵海波;孙燕波 |
| 地址： | 214400 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种形状记忆镭射膜，由下而上依次为基底层(1)、信息层(2)、形状记忆合金层(3)、阻隔层(4)，信息层(2)均匀喷涂于基底层(1)上表面，形状记忆合金层(3)采用磁控溅射镀于信息层上表面，阻隔层采用胶粘均匀贴合于形状记忆合金层(3)上表面。本实用新型具有涂料附着能力强、膜身硬挺度高、弹性大、损伤易修复等优点，因而能大大提高成品率，极适合大规模自动化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 形状记忆合金层 上表面 信息层 本实用新型 形状记忆 基底层 镭射膜 阻隔层 自动化生产 磁控溅射 均匀喷涂 涂料附着 成品率 能力强 硬挺度 胶粘 贴合 损伤 修复 | ||
【主权项】：
1.一种形状记忆镭射膜，其特征在于：由下而上依次为基底层(1)、信息层(2)、形状记忆合金层(3)、阻隔层(4)，信息层(2)均匀喷涂于基底层(1)上表面，形状记忆合金层(3)采用磁控溅射镀于信息层上表面，阻隔层采用胶粘均匀贴合于形状记忆合金层(3)上表面。
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