[实用新型]单腔叠层薄膜沉积设备有效
申请号: | 201820209472.1 | 申请日: | 2018-02-06 |
公开(公告)号: | CN208501095U | 公开(公告)日: | 2019-02-15 |
发明(设计)人: | 乐阳 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米装备科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 朱少华 |
地址: | 214028 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型的单腔叠层薄膜沉积设备,其包括进气装置,所述进气装置包括气体出气口;隔离装置,所述隔离装置包括气体出气口周围,隔离装置使得气体的混合反应在空间上实现局域化,(AB/AB.../CB/CB...)...式周期复合结构叠层薄膜所需三种气体四个出气口以及分布在第一反应气体进气口与第三反应气体进气口周围的隔离装置组成最小周期复合结构单元,出气口[(AB)x(CB)y]m,x≥1,y≥1,m≥1。本设备包括一个周期或一个以上周期复合结构单元(AB)x(CB)y。驱动装置,其用于驱动所述待处理衬底或者驱动进气装置;基于本实用新型设计,待处理衬底在多个周期不同薄膜局域化独立反应空间中相对运动,沉积对应的薄膜。 | ||
搜索关键词: | 隔离装置 叠层薄膜 复合结构 进气装置 进气口 本实用新型 气体出气口 沉积设备 反应气体 出气口 局域化 衬底 单腔 薄膜 独立反应空间 驱动 混合反应 驱动装置 最小周期 沉积 | ||
【主权项】:
1.一种单腔叠层薄膜沉积设备,其包括:进气装置,含第一出气口,其用于向待处理衬底输送第一反应气体A;第二出气口用于向所述待处理衬底输送第二反应气体B;第三出气口,其用于向所述待处理衬底输送第三反应气体C;第四出气口,用于向所述待处理衬底输送第二反应气体B;隔离装置,分布在所述第一反应气体与第三反应气体出气口周围,隔离装置使得第一反应气体与第二反应气体的混合反应在空间上实现局域化,同时第三反应气体与第二反应气体的混合反应在空间上实现局域化;(AB/AB.../CB/CB...)...式周期复合结构叠层薄膜所需三种气体四个出气口以及分布在第一反应气体出气口与第三反应气体出气口周围的隔离装置组成最小周期复合结构单元,出气口[(AB)x(CB)y]m,x≥1,y≥1,m≥1;待处理衬底载具,用于装载待处理衬底;驱动装置,用于驱动所述进气装置进气口和/或者待处理衬底。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏微导纳米装备科技有限公司,未经江苏微导纳米装备科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820209472.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的