[实用新型]一种超细碳化硅气流粉碎室

摘要

本实用新型专利主要公开了一种超细碳化硅气流粉碎室，它包括主体；所述的主体下部设置有气源一连接管和气源二连接管；所述的主体左侧设置有喷嘴一；主体右侧设置有喷嘴二；所述的喷嘴一正前方设置有稳流管一，所述的稳流管一前方设置有靶板一，所述的靶板一固定在托板一上；所述的托板一设置在主体上；所述的喷嘴二正前方设置有稳流管二，所述的稳流管二前方设置有靶板二，所述的靶板二固定在托板二上；所述的喷嘴一包括入口稳定段、渐缩段、喉部段、扩张段和出口稳定段；本实用新型专利通过对喷嘴的改进，使得喷嘴喷出的气流速度更快，经稳流管后的气流更加稳定，分布均匀，使得粉碎效果更加。

主权项

1.一种超细碳化硅气流粉碎室，包括主体（1）；其特征是：所述的主体（1）下部设置有气源一连接管（2）和气源二连接管（3）；所述的主体（1）左侧设置有喷嘴一（4）；主体（1）右侧设置有喷嘴二（5）；所述的喷嘴一（4）上部设置有进料口（6）；所述的喷嘴二（5）上部设置有出料口（7）；所述的气源一连接管（2）和气源二连接管（3）在气源总管（8）处汇合；所述的气源总管（8）上设置有压力表（9）；所述的喷嘴一（4）正前方设置有稳流管一（10），所述的稳流管一（10）前方设置有靶板一（11），所述的靶板一（11）固定在托板一（12）上；所述的托板一（12）设置在主体（1）上；所述的喷嘴二（5）正前方设置有稳流管二（13），所述的稳流管二（13）前方设置有靶板二（14），所述的靶板二（14）固定在托板二（15）上；所述的托板二（15）设置在主体（1）上。