[实用新型]一种无掩模光刻系统

摘要

本实用新型公开了一种无掩模光刻系统，无掩模光刻系统包括二维载物平台；二维载物平台用于放置待曝光的感光基板/片；无掩模曝光装置，用于改变空间光调制器投射下来的光影图像的像素分辨率，实现不同线宽线距图像的曝光；二维载物平台运动检测装置；同步运动控制装置，用于控制二维载物平台沿预设扫描运动方向匀速运动和基于二维载物平台的二维运动信息控制空间光调制器开闭动作，将需要曝光的图分成多条等宽的图形进行分次曝光；用于将待用的远心镜头切换到光轴上的切换装置。本实用新型可以在不使用菲林的情况下，在感光基板/片上曝光出不同精细要求的图案，可降低针对各种不同精度掩膜板的制作成本，可提高掩膜板的制作效率。

主权项

1.一种无掩模光刻系统，其特征在于，包括：二维载物平台(3)，所述二维载物平台(3)用于放置待曝光的感光基板/片(2)，所述感光基板/片(2)以相对于二维载物平台(3)固定的方式设于所述二维载物平台(3)；无掩模曝光装置(1)，所述无掩模曝光装置(1)包括空间光调制器和镜头组件，所述镜头组件设在所述空间光调制器与所述感光基板/片(2)之间，用于改变所述空间光调制器投射下来的光影图像的像素分辨率，实现不同线宽线距图像的曝光；二维载物平台运动检测装置(8)，所述二维载物平台运动检测装置(8)用于检测所述二维载物平台(3)在垂直于所述空间光调制器的光轴(110)的平面内的二维运动信息；同步运动控制装置(6)，所述同步运动控制装置(6)用于控制所述二维载物平台(3)沿预设扫描运动方向匀速运动和基于所述二维载物平台(3)的二维运动信息控制所述空间光调制器开闭动作，将需要曝光的图分成多条等宽的图形进行分次曝光；以及用于将待用的远心镜头切换到所述光轴(110)上的切换装置(7)。