[实用新型]一种单晶金刚石双面抛光的装置有效
| 申请号： | 201820348134.6 | 申请日： | 2018-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN208342541U | 公开（公告）日： | 2019-01-08 |
| 发明（设计）人： | 武迪;郑大平;朱瑞;杨明;徐元成 | 申请（专利权）人： | 湖北碳六科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/08 | 分类号： | B24B37/08 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 杨采良 |
| 地址： | 443400 湖北省宜*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种单晶金刚石双面抛光的装置，包括上铸铁盘和下铸铁盘，所述上铸铁盘和下铸铁盘均可以绕着各自的旋转轴旋转，二者相对的面是平面，单晶金刚石位于相对的平面之间；所述上铸铁盘和下铸铁盘的旋转方向相反，转速相同。该装置通过改良单晶金刚石研磨盘和研磨的方式，从而实现单晶金刚石的双面抛光，并获得平行度较高的单晶金刚石产品，将抛光时间缩短了一半，更加有利于工业化的生产。 | ||
| 搜索关键词： | 铸铁盘 单晶金刚石 双面抛光 单晶金刚石产品 旋转方向相反 本实用新型 时间缩短 研磨 平行度 旋转轴 研磨盘 抛光 改良 生产 | ||
【主权项】：
1.一种单晶金刚石双面抛光的装置，其特征在于：包括上铸铁盘和下铸铁盘，所述上铸铁盘和下铸铁盘均可以绕着各自的旋转轴旋转，二者相对的面是平面，单晶金刚石位于相对的平面之间；所述上铸铁盘和下铸铁盘的旋转方向相反，转速相同。
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