[实用新型]一种均匀场流的蚀刻装置

摘要

本实用新型公开一种均匀场流的蚀刻装置，包括反应槽、入射单元、溢流槽、循环洁净单元，所述入射单元设置在反应槽的底部，入射单元包括入射管和反射罩，所述反射罩上表面为设置通孔的平面，反射罩通过通孔与反应槽连通，下表面为抛物面，所述入射管置于所述抛物面的抛物线所在的焦点处，所述入射管上设置有方向指向抛物面的入射孔。上述技术方案通过反射罩的抛物面，使得入射后的溶液反射后形成平行竖直向上的均匀的场流，同时由于反射罩上表面具有通孔，可以遮挡非竖直向上的场流，使得进入到反应槽内部的场流都是竖直向上，最终实现均匀场流，进而提高化学蚀刻的品质。

主权项

1.一种均匀场流的蚀刻装置，其特征在于：包括反应槽、入射单元、溢流槽、循环洁净单元，所述入射单元设置在反应槽的底部，入射单元包括入射管和反射罩，所述反射罩上表面为设置通孔的平面，反射罩通过通孔与反应槽连通，下表面为抛物面，所述入射管置于所述抛物面的抛物线所在的焦点处，所述入射管上设置有方向指向抛物面的入射孔，所述溢流槽设在反应槽外部的四周，循环洁净单元进液口与溢流槽底部连通，循环洁净单元出液口与入射管连通，循环洁净单元用于抽取并过滤溢流槽的液体。