[实用新型]一种硅基片自动清洗处理机

摘要

本实用新型公开了一种硅基片自动清洗处理机，包括通风实验柜、龙门架、机械臂、装夹工装、注液泵、电动滑台、防护盖板、吹干气嘴和循环泵，所述通风实验柜内部安装有龙门架，龙门架上设置有机械臂，机械臂的下端连接有装夹工装，通风实验柜的前侧开有料口，所述通风实验柜内部还设有注液泵，注液泵的右侧依次设有氢氟酸槽、去离子水槽和温控双氧水箱。本设备对于硅基片清洗处理流程实现全自动化操作；且设备为密封状态，保障危险气体、液体外泄飞溅，同时避免人工接触高危化学品（HF氢氟酸）及高温，大大提高操作人员人身安全和工作效率。

主权项

1.一种硅基片自动清洗处理机，包括通风实验柜（1）、龙门架（2）、机械臂（3）、装夹工装（4）、注液泵（6）、电动滑台（10）、防护盖板（11）、吹干气嘴（12）和循环泵（16），其特征在于：所述通风实验柜（1）内部安装有龙门架（2），龙门架（2）上设置有机械臂（3），机械臂（3）的下端连接有装夹工装（4），通风实验柜（1）的前侧开有料口（5），所述通风实验柜（1）内部还设有注液泵（6），注液泵（6）的右侧依次设有氢氟酸槽（7）、去离子水槽（8）和温控双氧水箱（9），注液泵（6）与氢氟酸槽（7）之间通过输液管相连，所述通风实验柜（1）内部还设有电动滑台（10），电动滑台（10）的一端连接有防护盖板（11），所述去离子水槽（8）的上方设有吹干气嘴（12），通风实验柜（1）的前侧还设有第一防护门（13），第一防护门（13）的下方还设有第二防护门（14），第二防护门（14）位于通风实验柜（1）的底部前侧，通风实验柜（1）的底部还设有管道（15），管道（15）一端分别与氢氟酸槽（7）、去离子水槽（8）和温控双氧水箱（9）连接，通风实验柜管道（15）的另一端连接有循环泵（16）。