[实用新型]一种AlGaP基紫外探测器有效
申请号: | 201820381172.1 | 申请日: | 2018-03-21 |
公开(公告)号: | CN208014712U | 公开(公告)日: | 2018-10-26 |
发明(设计)人: | 李国强;郑昱林;王文樑 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | H01L31/0304 | 分类号: | H01L31/0304;H01L31/102;H01L31/18 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍;冯振宁 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种AlGaP基紫外探测器,包括生长在衬底层上的AlP缓冲层,生长在AlP缓冲层上的非掺杂GaP层,非掺杂GaP层上的Si掺杂的n‑AlGaP层,所述Si掺杂的n‑AlGaP层的一侧表面覆盖有第一Au层,另一侧覆盖有i‑AlGaP层,所述i‑AlGaP层上覆盖有第二Au层。本实用新型的紫外探测器可实现对紫外光的灵敏探测,可应用于紫外检测等领域,经济效益可观。 | ||
搜索关键词: | 紫外探测器 本实用新型 掺杂的 非掺杂 缓冲层 紫外光 表面覆盖 灵敏探测 紫外检测 生长 衬底层 覆盖 应用 | ||
【主权项】:
1.一种AlGaP基紫外探测器,其特征在于,包括衬底层(1)、AlP缓冲层(2)、非掺杂GaP层(3)、Si掺杂的n‑AlGaP层(4)、i‑AlGaP层(5)、第一Au层(6)和第二Au层(7),所述衬底层(1)上覆盖着AlP缓冲层(2),AlP缓冲层(2)上覆盖着非掺杂GaP层(3),非掺杂GaP层(3)上覆盖着Si掺杂的n‑AlGaP层(4);所述Si掺杂的n‑AlGaP层(4)上表面的一侧覆盖有i‑AlGaP层(5),另一侧覆盖有第一Au层(6);所述i‑AlGaP层(5)上覆盖有第二Au层(7)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的