[实用新型]一种高能离子注入机射频加速装置

摘要

本实用新型公开了一种高能离子注入机射频加速装置，属于半导体制造领域，该装置包括主控计算机，数字移相器，阻抗相位检测器，射频加速系统，通信接口电路，射频电源，同步调谐相位、电压控制器，调谐电机，调谐筒和静电四极透镜，射频加速系统包含有多个双腔结构的射频加速腔、每个射频加速腔连接一个调谐筒，调谐筒连接调谐电机和同步调谐相位、电压控制器，调谐电机还与同步调谐相位、电压控制器相连，主控计算机通过通信接口电路连接数字移相器和每一个同步调谐相位、电压控制器，数字移相器还与每一个同步调谐相位、电压控制器相连接。本实用新型通过多级射频加速腔串联同步加速来提高离子束的能量，使得离子束能量可达十兆电子伏特以上，满足兆电子伏特能量的离子注入要求。

主权项

1.一种高能离子注入机射频加速装置，包括主控计算机，数字移相器，射频加速系统，通信接口电路，射频电源，同步调谐相位、电压控制器，阻抗相位检测器，调谐电机，调谐筒和静电四极透镜，射频加速系统包含有多个双腔结构的射频加速腔、每个射频加速腔连接一个调谐筒，调谐筒连接调谐电机和同步调谐相位、电压控制器，调谐电机还与同步调谐相位、电压控制器相连，主控计算机通过通信接口电路连接数字移相器和每一个同步调谐相位、电压控制器，数字移相器还与每一个同步调谐相位、电压控制器相连接。