[实用新型]一种旋转式磁控溅射装置

摘要

本实用新型涉及溅射镀膜领域，特别涉及一种旋转式磁控溅射装置，包括真空箱体、水平设置的密封盖板、移动导杆机构和磁铁旋转机构，所述磁铁旋转机构包括水平设置的支撑板、旋转电机、水平设置的旋转叶片、连接柱、磁铁和磁铁座，本实用新型的一种旋转式磁控溅射装置，当设备工作时，旋转电机带动旋转叶片旋转，旋转叶片通过长条形通槽和连接柱顶端的圆柱型凸轮滑动配合，带动连接柱、磁铁座和磁铁沿环形滑槽在密封盖板表面滑动，使得靶材下部的磁感应线均匀分布在整个靶材的溅射面范围，有效减少了固定磁场对靶材固定区域的过度刻蚀，使靶材表面各个部位均匀刻蚀，大大提高了平面靶材的利用率和使用寿命。

主权项

1.一种旋转式磁控溅射装置，其特征在于：包括真空箱体（1）、水平设置的密封盖板（2）、移动导杆机构和磁铁（8）旋转机构，所述密封盖板（2）固定安装在真空箱体（1）顶部，所述密封盖板（2）顶部的四个拐角处分别设有竖直设置的第一支撑柱（2a）、第二支撑柱（2b）、第三支撑柱（2c）和第四支撑柱（2d），所述移动导杆机构包括水平设置的第一滑道（3）和第二滑道（4），所述第一滑道（3）的两端分别与第一支撑柱（2a）和第二支撑柱（2b）固定连接，所述第二滑道（4）的两端分别与第三支撑柱（2c）和第四支撑柱（2d）固定连接，所述第一滑道（3）上设有与第一滑道（3）滑动配合的第一伸缩杆（3c），第一伸缩杆（3c）水平设置，第一伸缩杆（3c）的轴线与第一滑道（3）的长度方向垂直，所述第二滑道（4）上设有与第二滑道（4）滑动配合的第二伸缩杆（4c），第二伸缩杆（4c）水平设置，第二伸缩杆（4c）的轴线与第二滑道（4）的长度方向垂直，所述磁铁（8）旋转机构包括水平设置的支撑板（5）、旋转电机（5a）、水平设置的旋转叶片（5b）、连接柱（6）、磁铁（8）和磁铁（8）座（7），所述支撑板（5）的四个拐角处设有供支撑柱顶端一一对应插接的安装槽（5c），所述支撑板（5）底部设有供连接柱（6）滑动的环形滑槽（10）（5d），旋转电机（5a）与支撑板（5）的顶部固定连接，旋转电机（5a）的输出端竖直朝下贯穿支撑板（5），所述旋转叶片（5b）为长条形板，旋转叶片（5b）的一端与旋转电机（5a）的输出端固定连接，所述旋转叶片（5b）设有和连接柱（6）顶端滑动配合的长条形通槽（5b1），磁铁（8）座（7）与连接柱（6）的底端固定连接，所述磁铁（8）与磁铁（8）座（7）的底部固定连接。