[实用新型]一种掩膜版有效
申请号: | 201820462852.6 | 申请日: | 2018-04-03 |
公开(公告)号: | CN207924370U | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 耿越;蔡佩芝;庞凤春;古乐;车春城 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/58 | 分类号: | G03F1/58;G02F1/17 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 莎日娜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请公开一种掩膜版,包括:相对设置的第一基板、第二基板、以及位于所述第一基板与所述第二基板之间的极性粒子,所述极性粒子具有吸光或透光作用;所述第一基板包括朝向所述第二基板设置的呈阵列排布的多个驱动电极,所述驱动电极用于接收电信号,并控制所述极性粒子移动到指定驱动电极上,形成预设图案。本实用新型实施例的掩膜版,通过第一基板上的呈阵列分布的驱动电极来控制极性粒子的移动,可以根据实际掩膜需要,将极性粒子移动到指定的驱动电极上,遮光图案灵活可变,可以形成具有不同掩膜图案的掩膜版,通过一张掩膜版实现多张掩膜版的作用,制作工艺简单,可以大幅度降低光刻工艺掩膜版的成本,提升掩膜版的利用率。 | ||
搜索关键词: | 掩膜版 极性粒子 驱动电极 第一基板 第二基板 掩膜 移动 本实用新型 接收电信号 光刻工艺 相对设置 掩膜图案 预设图案 遮光图案 阵列分布 阵列排布 制作工艺 可变 透光 吸光 灵活 申请 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜版,其特征在于,包括:相对设置的第一基板、第二基板、以及位于所述第一基板与所述第二基板之间的极性粒子,所述极性粒子具有吸光或透光作用;所述第一基板包括朝向所述第二基板设置的呈阵列排布的多个驱动电极,所述驱动电极用于接收电信号,并控制所述极性粒子移动到指定的驱动电极上,形成预设图案。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
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