[实用新型]一种光线利用率高的保护膜有效

专利信息
申请号: 201820470735.4 申请日: 2018-03-30
公开(公告)号: CN208092267U 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 张蕊;管重阳;马飞;任小英;卢燕 申请(专利权)人: 深圳市亮键电子科技有限公司
主分类号: G02B1/14 分类号: G02B1/14;G02B1/10
代理公司: 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 代理人: 王雪镅
地址: 518106 广东省深圳市光明新区马*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及保护膜技术领域,具体涉及一种光线利用率高的保护膜,其包括薄膜基板、设置于薄膜基板的下表面的防眩层、以及形成于薄膜基板的上表面的若干个形状相同的弧形凸面和弧形凹面;弧形凸面和弧形凹面相邻拼接;防眩层是由防眩涂料通过喷涂于薄膜基板的下表面而形成。由于薄膜基板的上表面由若干个形状相同的弧形凸面和弧形凹面组成,进而使得光线经保护膜时能够在出光面处发生绕射作用射出保护膜,进而降低了光能的损耗,大大提高了光线利用率。另外,由于设置有防眩层,进而使得该保护膜具有很好的防眩效果。
搜索关键词: 保护膜 薄膜基板 光线利用率 弧形凹面 弧形凸面 防眩层 上表面 下表面 防眩 本实用新型 出光面 喷涂于 光能 绕射 射出 拼接 涂料
【主权项】:
1.一种光线利用率高的保护膜,其特征在于:包括薄膜基板、设置于所述薄膜基板的下表面的防眩层、以及形成于所述薄膜基板的上表面的若干个形状相同的弧形凸面和弧形凹面;所述弧形凸面和所述弧形凹面相邻拼接;所述防眩层是由防眩涂料通过喷涂于所述薄膜基板的下表面而形成。
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