[实用新型]一种高雪崩耐量的深沟槽功率器件有效
申请号: | 201820487064.2 | 申请日: | 2018-04-08 |
公开(公告)号: | CN207967003U | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 朱袁正;周锦程 | 申请(专利权)人: | 无锡新洁能股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/78;H01L29/417;H01L29/423 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
地址: | 214131 江苏省无锡市滨湖区高浪东路999号*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型属于半导体器件的制造技术领域,涉及一种高雪崩耐量的深沟槽功率器件,包括第一导电类型硅衬底和第一导电类型硅外延层,在第一导电类型硅外延层内设有沟槽,在沟槽内设有场氧层、屏蔽栅、栅极及栅氧层,相邻的沟槽间设有第二导电类型体区及第一导电类型源区,在沟槽与第一导电类型源区上设有绝缘介质层和源极金属,其特征在于,在相邻沟槽间的平台区,源极金属通过两个通孔与第二导电类型体区接触,且每个通孔下方均设有第二导电类型源区;本实用新型将传统的单一通孔改进为双通孔,能够有效抑制电流向平台中心汇聚,从而抑制了击穿薄弱点的产生,使得深沟槽器件可以采用电阻率更低的外延层与更厚的场氧层,进而降低器件的导通电阻。 | ||
搜索关键词: | 第一导电类型 导电类型 深沟槽 通孔 源区 本实用新型 功率器件 硅外延层 雪崩耐量 源极金属 场氧层 半导体器件 绝缘介质层 导通电阻 降低器件 平台中心 体区接触 相邻沟槽 有效抑制 薄弱点 传统的 电阻率 硅衬底 平台区 屏蔽栅 双通孔 外延层 栅氧层 击穿 体区 汇聚 制造 改进 | ||
【主权项】:
1.一种高雪崩耐量的深沟槽功率器件,包括用于引出漏区的第一导电类型硅衬底(1)及位于所述第一导电型类型硅衬底(1)上的第一导电类型硅外延层(2),在所述第一导电类型硅外延层(2)内设有沟槽(13),在所述沟槽(13)内设有场氧层(3)、被所述场氧层(3)包裹的屏蔽栅(4)、位于屏蔽栅(4)顶端两侧的由多晶硅形成的栅极(5)及包裹在所述栅极(5)周围的栅氧层(6),所述栅极(5)位于场氧层(3)的顶部,相邻的沟槽(13)间的第一导电类型硅外延层(2)表面设有第二导电类型体区(8)及位于所述第二导电类型体区(8)表面的第一导电类型源区(9),在沟槽(13)与第一导电类型源区(9)上设有绝缘介质层(11),在所述绝缘介质层(11)上设有源极金属(12),其特征在于,在相邻沟槽(13)间的平台区,所述源极金属(12)通过两个通孔(7)与第二导电类型体区(8)接触,且每个通孔(7)下方均设有第二导电类型源区(10)。
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