[实用新型]一种纳米真空镀膜装置有效
| 申请号： | 201820494624.7 | 申请日： | 2018-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN208087730U | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 苏文校 | 申请（专利权）人： | 东莞市优上纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 | 代理人： | 殷齐齐 |
| 地址： | 523000 广东省东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型属于真空镀膜技术领域，特别涉及一种纳米真空镀膜装置，包括机架、控制器、升华炉、分解炉、真空通道、真空镀膜缸体、冷凝井和真空泵，所述控制柜、所述升华炉和所述分解炉均设置于所述机架内，所述控制器分别连接于所述升华炉、所述分解炉、所述真空镀膜缸体、所述冷凝井和所述真空泵，所述真空通道的一端与所述升华炉的输出端连接，所述真空通道的另一端穿过所述分解炉与所述真空镀膜缸体连通，所述真空镀膜缸体通过所述冷凝井与所述真空泵连接。通过上述结构使得本实用新型的镀膜均匀，且镀膜效果好，尤其适用于大批量工业化生产，具有很高的市场应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 分解炉 升华炉 缸体 真空通道 冷凝 真空镀膜装置 本实用新型 控制器 真空泵 真空镀膜技术 输出端连接 真空泵连接 镀膜效果 市场应用 控制柜 镀膜 连通 穿过 | ||
【主权项】：
1.一种纳米真空镀膜装置，其特征在于：包括机架、控制器、升华炉、分解炉、真空通道、真空镀膜缸体、冷凝井和真空泵，所述升华炉和所述分解炉均设置于所述机架内，所述控制器分别与所述升华炉、所述分解炉、所述真空镀膜缸体、所述冷凝井和所述真空泵连接，所述真空通道的一端与所述升华炉的输出端连接，所述真空通道的另一端穿过所述分解炉与所述真空镀膜缸体连通，所述真空镀膜缸体通过所述冷凝井与所述真空泵连接。
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