[实用新型]包括侧壁肖特基界面的设备有效
| 申请号： | 201820500587.6 | 申请日： | 2018-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN208240690U | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 苏毅;阿肖克·沙拉;提尔塔伊约蒂·萨卡尔;高旼暻 | 申请（专利权）人： | 半导体元件工业有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L29/872 | 分类号： | H01L29/872 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 王美石;姚开丽 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本实用新型涉及包括侧壁肖特基界面的设备。在一个一般性方面，设备可包括设置在半导体区域中的第一沟槽、设置在所述半导体区域中的第二沟槽、以及设置在所述半导体区域中的所述第一沟槽与所述第二沟槽之间的凹槽。所述凹槽具有侧壁和底表面。所述设备还包括沿着所述凹槽的侧壁的肖特基界面，并且所述凹槽的所述底表面排除肖特基界面。 | ||
| 搜索关键词： | 肖特基 侧壁 半导体区域 本实用新型 | ||
【主权项】：
1.一种包括侧壁肖特基界面的设备，包括：第一沟槽，所述第一沟槽设置在半导体区域中；第二沟槽，所述第二沟槽设置在所述半导体区域中；凹槽，所述凹槽设置在所述半导体区域中的所述第一沟槽与所述第二沟槽之间并且具有侧壁和底表面；以及肖特基界面，所述肖特基界面沿着所述凹槽的侧壁，所述凹槽的所述底表面排除肖特基界面。
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