[实用新型]一种中频磁控溅射沉积深空灰薄膜设备有效

专利信息
申请号: 201820506574.X 申请日: 2018-04-11
公开(公告)号: CN208121195U 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 杜旭颖;阮志明;王大洪;曾德强;庞文峰 申请(专利权)人: 深圳市正和忠信股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 中山市兴华粤专利代理有限公司 44345 代理人: 林红燕
地址: 518117 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型属于真空镀膜技术领域,具体涉及一种中频磁控溅射沉积深空灰薄膜设备。所述中频磁控溅射沉积深空灰薄膜设备,包括一真空腔体、一抽真空装置,所述真空腔体内设置有一环形工件转架、两个靶材凸腔、一用于放置弧源的弧源凸腔、一用于放置离子源的离子源凸腔;所述真空腔体内还设置有抽真空口,在抽真空口设置一风栅,所述风栅等距设置若干可转动的活动百叶。所述中频磁控溅射沉积深空灰薄膜设备设置有风栅,可通过调整风栅百叶的角度以控制抽气效果,在不同的溅射沉积工段调节真空腔体内部的气流分布以及调整气体中离子成分,控制真空腔体内部的真空度,最终达到使沉积的深灰色薄膜达到颜色均匀稳定的效果。
搜索关键词: 中频磁控溅射 沉积 薄膜设备 真空腔 风栅 凸腔 抽真空口 离子源 体内部 弧源 体内 真空镀膜技术 本实用新型 抽真空装置 等距设置 环形工件 活动百叶 溅射沉积 气流分布 颜色均匀 真空腔体 可转动 工段 靶材 百叶 抽气 转架 薄膜 离子
【主权项】:
1.一种中频磁控溅射沉积深空灰薄膜设备,其特征在于:包括一真空腔体、一抽真空装置,所述真空腔体内设置有一环形工件转架、两个靶材凸腔、一用于放置弧源的弧源凸腔、一用于放置离子源的离子源凸腔;所述真空腔体内还设置有抽真空口,在抽真空口设置一风栅,所述风栅等距设置若干可转动的活动百叶;所述弧源凸腔和所述离子源凸腔分别设置于抽真空口两侧。
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