[实用新型]一种黑色导电PVD薄膜有效
| 申请号： | 201820506832.4 | 申请日： | 2018-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN208121182U | 公开（公告）日： | 2018-11-20 |
| 发明（设计）人： | 杜旭颖;阮志明;王大;曾德强;庞文峰 | 申请（专利权）人： | 深圳市正和忠信股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 中山市兴华粤专利代理有限公司 44345 | 代理人： | 林红燕 |
| 地址： | 518117 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种基于物理气相沉积(PVD)技术制成的黑色导电PVD薄膜。所述黑色导电PVD薄膜沉积于基材表面，所述黑色导电PVD薄膜由基材表面从下往上依次包括：底层，所述底层为单一金属底层；第一过渡层，所述第一过渡层为钨合金镀层；第二过渡层，所述第二过渡层为钨合金碳化物镀层；功能层，所述功能层为导电碳化物镀层；颜色层，所述颜色层为导电混合镀层。所述黑色导电PVD薄膜的方块电阻为10～2000(Ω/sq)，膜厚1～5um，颜色L＝28～40，a＝‑0.3～0.3，b＝‑1～1，硬度：500～1500HV，具有表面光滑细腻，耐腐蚀、耐候性、耐磨擦性能优异、电阻低的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 过渡层 薄膜 基材表面 功能层 钨合金 颜色层 镀层 物理气相沉积 真空镀膜技术 本实用新型 导电碳化物 耐磨擦性能 碳化物镀层 薄膜沉积 单一金属 方块电阻 混合镀层 耐腐蚀 耐候性 电阻 膜厚 | ||
【主权项】：
1.一种黑色导电PVD薄膜，其特征在于：所述黑色导电PVD薄膜沉积于基材表面，所述黑色导电PVD薄膜由基材表面从下往上依次包括：底层，所述底层为单一金属底层；第一过渡层，所述第一过渡层为钨合金镀层；第二过渡层，所述第二过渡层为钨合金碳化物镀层；功能层，所述功能层为导电碳化物镀层；颜色层，所述颜色层为非晶碳和碳化钨的混合镀层。
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